一：在鍋爐水的治理過程中，對硅的參數(shù)要求主要是針對鍋爐及節(jié)能方面。

硅是造成鍋爐及整個系統(tǒng)結垢的主要原因之一，結垢機理如下:

H2SiO3 ---> H++HSiO3-

MgOH++HSiO3----> MgSiO3+H2O

造成結垢的主要原因是:給水中鐵，鋁，硅的化合物含量高，形成硅酸鐵等垢。

NaSiO3+Fe3O4--> Na2Fe3O4.SiO2

1.2：硅酸鹽容易結垢的地方主要為:鍋爐水冷壁、蒸發(fā)器等熱負荷較高的部位。熱負荷較高或水循環(huán)不良的爐管，火側的結垢比背火側嚴重，結垢后對鍋爐拱能系統(tǒng)造成的影響有:造成能源的浪費，容易形成垢下腐蝕，甚至爆管等安全現(xiàn)象。

防止的方法:降低給水中硅，鋁和其它氧化物含量;提高爐水pH，減小硅酸的溶解攜帶;定期檢測硅酸根含量

1.3：硅酸根分析儀是一種其干微外理器的比色分析儀，可以依次對6個的獨立流路進行采樣分析測量，被分析的樣水在一個固定的環(huán)路內

環(huán)流，并能使樣水得到快速更新，流量的調節(jié)借助干一個閥門來實現(xiàn)。在分析的開始，樣水借助干一個電磁閥被引入測量槽內，用微

脈沖泵依次加入各種試劑，在反應結束時執(zhí)行光度計測量，進而轉換成硅酸根離子的濃度輸出。

二：隨著電廠的規(guī)定標準和除鹽凈水工程要求的提高，對硅酸根監(jiān)測的時效性和準確性也大幅提高。為此，沃懋推出的T6060型硅酸根分析儀(Silica Analyzer)，采用鼓氣式液壓加藥方式，冷光源分光測量，無死體積反應池，保證了儀表測量的準確性、可靠性。儀表外型結構如圖所示。

2.1：儀器特點：

? 采用鼓氣式液壓加藥方式，可實現(xiàn)精準計量；

? 冷光源分光測量，延長了光源的使用壽命；

? 自動調節(jié)光源的光強，光源衰減后也可保證儀表測量的準確度；

? 自動控制反應溫度，恒溫測量和校準；

? 大容量的存儲器，可保存6年測量數(shù)據(jù)；

? 真彩色液晶屏，操作、顯示更加直觀；

? 6路隔離的電流輸出，可配置到任意通道、任意量程或PID；

? 6路繼電器輸出，可配置為超限報警、斷樣報警或系統(tǒng)故障報警；

? RS485接口，可配置9600bps到57.6kbps，實現(xiàn)遠程數(shù)據(jù)監(jiān)測；

? 可查詢任意時間段內的曲線和測量報警。